Tapis à filaments continus pour des procédés de pultrusion efficaces

brève description:

Le tapis CFM955 offre des propriétés clés pour la pultrusion : un mouillage rapide, un bon mouillage, une conformabilité élevée, une excellente douceur de surface et une forte résistance à la traction, ce qui le rend idéal pour la fabrication de profilés.

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Détails du produit

CARACTÉRISTIQUES ET AVANTAGES

●Maintient une résistance à la traction élevée à des températures élevées et lorsqu'il est saturé de résine, permettant une production et une productivité à haut débit.

●Imprégnation rapide et mouillage complet

●Convertibilité sans effort en largeurs personnalisées

●Propriétés de résistance transversale et multidirectionnelle exceptionnelles dans les profilés pultrudés

●Bonne usinabilité des formes pultrudées

CARACTÉRISTIQUES DU PRODUIT

Code produit	Poids (g)	Largeur maximale (cm)	Solubilité dans le styrène	Densité du faisceau (tex)	Résistance à la traction	Contenu solide	Compatibilité de la résine	Processus
CFM955-225	225	185	Très faible	25	70	6±1	UP/VE/EP	Pultrusion
CFM955-300	300	185	Très faible	25	100	5,5±1	UP/VE/EP	Pultrusion
CFM955-450	450	185	Très faible	25	140	4,6±1	UP/VE/EP	Pultrusion
CFM955-600	600	185	Très faible	25	160	4,2±1	UP/VE/EP	Pultrusion
CFM956-225	225	185	Très faible	25	90	8±1	UP/VE/EP	Pultrusion
CFM956-300	300	185	Très faible	25	115	6±1	UP/VE/EP	Pultrusion
CFM956-375	375	185	Très faible	25	130	6±1	UP/VE/EP	Pultrusion
CFM956-450	450	185	Très faible	25	160	5,5±1	UP/VE/EP	Pultrusion

●Autres poids disponibles sur demande.

●Autres largeurs disponibles sur demande.

●Le CFM956 est une version rigide pour une résistance à la traction améliorée.

CONDITIONNEMENT

●Alésage du carottage : 76,2 mm (3") ou 101,6 mm (4") avec une épaisseur de paroi minimale ≥ 3 mm

●Film protecteur individuel appliqué sur chaque rouleau et palette

●Chaque unité (rouleau/palette) porte une étiquette de traçabilité contenant le code-barres, le poids, la quantité de rouleau, la date de production et les métadonnées essentielles.